照射ドーズ量制御によるFIB-CVD三次元微細構造形成の高精度化に関する研究

村尾 裕規; 米谷 玲皇; 割澤 伸一; 石原 直

doi:10.11522/pscjspe.2011A.0.393.0

2011年度精密工学会秋季大会

セッションID: H81

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2011A.0.393.0

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主催: 公益社団法人精密工学会

照射ドーズ量制御によるFIB-CVD三次元微細構造形成の高精度化に関する研究

*村尾裕規, 米谷玲皇, 割澤伸一, 石原直

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キーワード: FIB-CVD, 三次元微細加工

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抄録

三次元微細構造作製技術であるFocused-Ion-Beam Chemical Vapor Deposition(FIB-CVD)の構造形成精度には課題が残されている．本研究ではFIB-CVD三次元ナノ構造作製における形状補正技術の確立を目的とし，構造体作製過程において集束イオンビームの照射ドーズ量を可変制御することによる構造形成高さの補正法を提案し，その加工特性を評価した．

責任著者(Corresponding author)

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