結晶シリコン太陽電池用エミッタ層への応用を目指した高圧プラズマ化学輸送法による微結晶SiC薄膜の形成

堀 貴博; 垣内 弘章; 安武 潔; 大参 宏昌

doi:10.11522/pscjspe.2011A.0.521.0

2011年度精密工学会秋季大会

セッションID: J36

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2011A.0.521.0

会議情報

主催: 公益社団法人精密工学会

結晶シリコン太陽電池用エミッタ層への応用を目指した高圧プラズマ化学輸送法による微結晶SiC薄膜の形成

*堀貴博, 垣内弘章, 安武潔, 大参宏昌

著者情報

キーワード: 太陽電池, プラズマ, シリコンカーバイド

会議録・要旨集フリー

詳細

抄録

現在、太陽電池のさらなる高効率化・低コスト化に向けた取り組みが盛んに行われている．この様な背景から，我々は高圧力の水素プラズマを用いた大気圧プラズマ化学輸送法 (APECT法)によりn型SiC薄膜をp型Si基板上へ形成する手法の開発に取り組んでいる．本講演では，Si基板上のエミッタ層として利用するためAPECT法により形成した微結晶SiC薄膜に対し，その電気／光学特性を評価した．その結果を報告する．

責任著者(Corresponding author)

J-STAGEへの登録はこちら（無料）