MEMS技術を応用したCMP用マイクロパターンパッドの研究 PEEK材を使用した耐摩耗性パッドの評価

安田 佳祐; 木村 景一; 鈴木 恵友; カチョーンルンルアン パナート; 磯野 慎太郎

doi:10.11522/pscjspe.2011S.0.349.0

2011年度精密工学会春季大会

セッションID: E08

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2011S.0.349.0

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主催: 社団法人精密工学会

MEMS技術を応用したCMP用マイクロパターンパッドの研究

PEEK材を使用した耐摩耗性パッドの評価

*安田佳祐, 木村景一, 鈴木恵友, カチョーンルンルアンパナート, 磯野慎太郎

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キーワード: 化学的機械研磨, ポリシングパッド, フォトリソグラフィ, 異方性エッチング

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抄録

CMP技術に使用されるポリシングパッドの表面形状はコンディショニングによりランダムで複雑であり，その表面形状が研磨に及ぼす影響は未だ解明されていない．そこでマイクロメートルオーダーの表面形状を設計したポリシングパッドを製作し，研磨を行うことで最適な表面形状を追求する．本研究では設計した表面形状を研磨中より長く保つ必要がある．そこで本報告ではPEEK材を用い，耐摩耗性の向上を図る．

責任著者(Corresponding author)

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