高能率高精度Ｘ線ミラー加工のためのIBF(Ion Beam Figuring)システムの開発

北村 真一; 松山 智至; 三村 秀和; 佐野 泰久; 山内 和人

doi:10.11522/pscjspe.2011S.0.513.0

2011年度精密工学会春季大会

セッションID: G16

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2011S.0.513.0

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主催: 社団法人精密工学会

高能率高精度Ｘ線ミラー加工のためのIBF(Ion Beam Figuring)システムの開発

*北村真一, 松山智至, 三村秀和, 佐野泰久, 山内和人

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キーワード: X線ミラー

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抄録

我々はX線ミラーの高能率高精度加工を行うために，新たにIBF(Ion Beam Figuring)システムの開発を行った．本装置は，大電流かつ高安定性といった特徴を持つイオン源(RFプラズマ方式)と収束レンズ，高精度試料位置決めシステムで構成されている．5keVにおいては110uA，φ1.87mm，2keVにおいては15.6uA，φ0.62mmのイオンビームが実現できている．本発表では今回開発したシステムの加工特性評価について発表する．

責任著者(Corresponding author)

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