バッファ層付加によるTiNi薄膜の形状記憶特性の向上

尾崎 秀次; 槌谷 和義

doi:10.11522/pscjspe.2011S.0.77.0

抄録

本研究では， MEMS用機能性材料の中でも特に発生力の大きいTiNi形状記憶合金薄膜の医療分野での使用を目的とした開発を行っている．このTiNiはECRスパッタリング法によって薄膜化するが，薄膜化による体積減少により発生力等の形状記憶特性が低下することが問題となる．そこで，特にTiNi薄膜の発生力に注目し，これに影響を及ぼす薄膜のひずみをバッファ層付加により制御し，TiNi薄膜の高機能化を目指す．

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複雑コミュニケーションサイエンス（CCS）
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