FIB/EB複合リソグラフィによる歪印加振動子作製技術

黒田 耕平; 米谷 玲皇; 割澤 伸一; 石原 直

doi:10.11522/pscjspe.2011S.0.883.0

2011年度精密工学会春季大会

セッションID: L13

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2011S.0.883.0

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主催: 社団法人精密工学会

FIB/EB複合リソグラフィによる歪印加振動子作製技術

*黒田耕平, 米谷玲皇, 割澤伸一, 石原直

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キーワード: 振動子, リソグラフィ, NEMS, MEMS

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抄録

近年MEMS/NEMSの一つである振動子に注目が集まっている．その共振性能向上手段として歪印加手法があるが，従来の作製法ではプロセスの複雑さやウエットエッチングによる作製精度等の問題がある．本研究では新たな歪印加振動子作製法としてレジストを構造材料に用いたFIB/EB複合リソグラフィによる3D構造作製法，及びアニールによる歪印加手法を提案する．この作製法により振動子構造の作製に成功し，応力1.04MPa歪3.7×10-5を印加することに成功した．

責任著者(Corresponding author)

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