電子ビーム露光法を用いたナノパターンロールモールドの作製

抄録

ロールトゥロール技術はナノインプリントリソグラフィにおいて高スループットな技術である。しかし、この技術に用いるモールドは円筒状なため作製が難しく従来のロールモールド作製方法ではつなぎ目が生じてしまう。また、透明電極、ワイヤグリッド偏光子などデバイスの作製には100nm以下のパターンが必要である。そこで今回は回転露光法を用いて様々な条件を変え100nm以下の微細なラインアンドスペースパターンをシームレスで作製した。