レプリカモールドを用いたロールナノインプリントに関する研究

抄録

ロールトゥロールUVナノインプリントリソグラフィ(Roll-to-Roll UV-NIL：RTR UV-NIL)は高スループットであり、微細パターンの作製に有効である。私たちはこの技術を利用して微細パターンを作製するために、金型作製や表面処理に関する研究を行った。その結果、レプリカモールドとRTR UV-NILを用いて微細パターンを連続的に転写することができた。この技術はソーラーパネル、ワイヤーグリッド偏光子などのデバイスの作製に適用可能である。