定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査（第15報）

コヒーレント結像逐次再構成型超解像装置の開発

抄録

高解像度の光学式半導体欠陥検査技術の開発にあたって，周期的照明パターンを空間シフトさせ，散乱光変調情報を含む複数画像を取得し，計算機による後処理を加えることで，レイリー限界を超えた解像を行う方法を研究している．インコヒーレント結像を前提としたアルゴリズムを用いることで，解像特性に悪影響があるという従来の問題に対応するべく，コヒーレント結像逐次再構成型超解像実現のための装置を開発したので報告する．