Ion Beam Figuringを用いた高精度X線ミラーの作製　第3報 シリコン表面に対する楕円形状の作製と評価

北村 真一; 松山 智至; 佐野 泰久; 山内 和人

doi:10.11522/pscjspe.2012S.0.1151.0

2012年度精密工学会春季大会

セッションID: O33

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2012S.0.1151.0

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主催: 公益社団法人精密工学会

Ion Beam Figuringを用いた高精度X線ミラーの作製　第3報

シリコン表面に対する楕円形状の作製と評価

*北村真一, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人

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キーワード: X線ミラー, イオンビーム形状創生

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抄録

我々は，高精度X線ミラーを作製するために，IBF（Ion Beam Figuring）システムの開発を行ってきた．本システムは，イオン源（RFプラズマ方式）と収束レンズ，ビーム出力安定化ユニットで構成されている．安定化ユニットは，エミッション電流の変化を逐一読み取りビーム出力に対してフィードバックをかける機構となっている．本発表では，本システムを用いて，数値制御加工技術によるシリコン結晶表面上に楕円形状を作製し，理想形状からの形状誤差を求めた．

責任著者(Corresponding author)

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