精密工学会学術講演会講演論文集
2012年度精密工学会春季大会
セッションID: C08
会議情報

計算科学シミュレーションによる電界がCeO2ナノ砥粒の研磨特性に与える影響の解明
*尾澤 伸樹河口 健太郎石川 宗幸中村 美穂樋口 祐次久保 百司
著者情報
会議録・要旨集 フリー

詳細
抄録
本研究では電界がCeO2ナノ粒子の研磨プロセスに与える影響を明らかにするため、分子動力学法及び第一原理計算を活用して、電界下における砥粒の研磨特性の変化について検討した。ここで、電界をかけることでCe原子がより表面に露出し、3価の状態で安定化することがわかった。また、そのような砥粒の構造及び電子状態の変化がSiO2表面研磨に与える影響を議論した。
著者関連情報
© 2012 公益社団法人 精密工学会
前の記事 次の記事
feedback
Top