大気圧RFプラズマを用いたZnO薄膜の高速形成と特性評価

抄録

本研究では、大気圧プラズマCVD（Chemical Vapor Deposition）法によるZnO薄膜の高速形成を目的としている。実験には、13.56MHzのRF電力によりプラズマを生成し、有機ZnとO₂をHeで希釈して用いた。今回、ガラス基板上に形成したZnO薄膜の構造および電気特性と成膜パラメータとの相関を検討したので報告する。