大気開放マイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜の生成

八原 将時; 川上 二郎; 柴田 裕介; 八木 秀次

doi:10.11522/pscjspe.2012S.0.375.0

2012年度精密工学会春季大会

セッションID: E14

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2012S.0.375.0

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主催: 公益社団法人精密工学会

大気開放マイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜の生成

*八原将時, 川上二郎, 柴田裕介, 八木秀次

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キーワード: 化学気相蒸着, 大気開放, ダイヤモンド

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抄録

一般的なマイクロ波プラズマCVD法では、真空装置により圧力を制御し低圧力下（1～100hPa）において薄膜の生成を行う．それに対し本研究は、プラズマの点火から膜生成まで一貫した大気開放下でのCVDプロセスによりダイヤモンド薄膜を生成することを目的とする．生成した膜はSEM及びラマン分光分析機により観察し、ダイヤモンドの成膜特性を有することを確認した．その成膜特性に及ぼす諸ガスの影響を報告する．

責任著者(Corresponding author)

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