大気圧VHFプラズマにより常温・高速形成したSiO_x薄膜の特性評価

抄録

本研究では、大気圧VHFプラズマを用いた常温でのSiO_x高能率コーティング技術の開発を目的としている。ヘキサメチルジシロキサンを原料とし、供給する酸素濃度を最適化した結果、酸素濃度0.03%において20 nm/s以上の成膜速度でダストフリーSiO_x形成を達成した。また、ポリカーボネイト基板上への成膜を試みたところ、基板に熱的ダメージを与えることなく、均質なSiO_xコーティングに成功した。