光放射圧プローブによる定在場スケールを用いた三次元形状のスキャニング測定（第3報）

スケールの内挿誤差の検討

抄録

ナノメートルオーダで三次元形状を評価する技術が要求されている．そこで我々は光放射圧プローブを用いた定在場スケールによるスキャニング測定を提案している．定在場スケールはレーザの半波長(532nm)と大きく，スケールの内挿が必要である．そこで本報では光放射圧プローブの位置を反映したプローブ信号をモデル化することによってスケールの内挿を行うとともに，内挿誤差要因を検証し，その可能性について検討した．