FIB-CVDを用いた３次元ナノ構造形成における構造形成高さの補正

抄録

集束イオンビーム化学気相成長法（FIB-CVD）による３次元ナノ構造形成の設計形状に対する忠実性向上を目的として、数10nm～数100nm寸法の構造体の形成高さ補正手法について検討した。補正は、構造形成における各照射点においてビーム照射時間を精密に制御する事により行った。ビーム照射条件に対する成長特性，本提案手法の効果、有効性について詳細に報告する。