マイクロバブルと紫外線照射による高効率CMPに関する研究

長岡 敦志; パナート カチョーンルンルアン; 木村 景一; 鈴木 恵友

doi:10.11522/pscjspe.2013A.0.955.0

2013年度精密工学会秋季大会

セッションID: Q21

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2013A.0.955.0

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主催: 公益社団法人精密工学会

マイクロバブルと紫外線照射による高効率CMPに関する研究

*長岡敦志, パナートカチョーンルンルアン, 木村景一, 鈴木恵友

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キーワード: CMP, マイクロバブル, スラリー, 紫外線

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抄録

現在CMP工程ではウェーハサイズの大面積化に適用するため高効率なポリシング手法を確立する必要がある. 本研究では酸化膜CMPを対象にシリカスラリーにマイクロバブルを混合させ、ポリシング中に紫外線照射を行うことにより高効率化を試みた.その結果，マイクロバブルと紫外線を併用することにより研磨効率が向上することを確認したのでその内容ついて報告する.

責任著者(Corresponding author)

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