精密工学会学術講演会講演論文集
2013年度精密工学会春季大会
セッションID: J13
会議情報

MEMS技術を応用したCMP用マイクロパターンパッドの研究
Niめっき金型を用いたマイクロパターンパッドの製作
*磯野 慎太郎鈴木 恵友伊藤 高廣カチョーンルンルアン パナート占部 正和木村 景一田代 康典鬼木 喬玄
著者情報
会議録・要旨集 フリー

詳細
抄録
CMPで使用されているポリシングパッドの表面形状は,研磨能力を決定する重要な要素である.そこで,ポリシングパッド表面上に任意の形状とパターンを形成したマイクロパターンパッドを製作し,より研磨性能の優れたポリシングパッドの開発を行う.これまで,MEMS製造技術である結晶異方性ウェットエッチングを応用したSi型によりマイクロパターンパッドを製作してきた.そのSi型をマスターとしてNiめっき金型を製作し,それを用いてマイクロパターンパッドを成形し,研磨実験を行ったので報告する.
著者関連情報
© 2013 公益社団法人 精密工学会
前の記事 次の記事
feedback
Top