レーザ照射による基板表面内での流路形成

抄録

シリコン、ガラスなどの基板へのレーザ照射による濡れ性変化、およびそれを利用した流路形成について報告する。レーザ照射によって基板の一部のみ改質した試料に液滴を滴下すると、液滴は改質領域内でのみ広がり、改質部境界を越えて進行しないことを確認した。この性質を利用し、改質部のパターニングによって基板表面に流路を形成した。また、流路内の親水化度合にグラデーションを作ることで、液滴輸送の可能性を示した。