産業用光干渉計測技術開発の20年を振り返って（キーノートスピーチ）

抄録

光干渉を利用した表面形状測定装置は，産業界において広く利用されているが，測定時間の短縮，透明膜への対応，耐振性向上など，多くの課題があった．干渉計測技術開発に携わってからの20年を振り返り，(1) 白色干渉法の高速化，(2) 透明膜対応，(3) ワンショット法，(4) 干渉色解析法などの開発技術を紹介する．