新たな酸化セリウム砥粒再生技術及び再生装置の開発

第2報

抄録

ガラスの研磨において必要不可欠な酸化セリウム砥粒は、研磨屑であるSi水和物の付着によって研磨能力が劣化する。このSi水和物を除去する新たな再生技術について検討し、それを実現する装置を開発している。本報では、分離回収時に、遠心分離を用いた再生手法を検討するとともに、処理時の酸化セリウム砥粒濃度の影響について調べた結果について報告する。