コロイダルシリカスラリーを用いたサファイアC面研磨に及ぼす温度の影響

抄録

サファイアの最終研磨には、一般にコロイダルシリカスラリーによるCMPが用いられている。本研究では、コロイダルシリカスラリーを用いてサファイアCMPを行った場合の、研磨特性に及ぼす温度の影響について検討した。その結果、検討を行った温度範囲においては、表面性状には大きな差違は認められない一方で、研磨速度は温度が高くなるほど高い値を示すことが分かった。この結果は、コロイダルシリカスラリーによるサファイアCMPにおいて、温度が高くなるほど化学作用性が活性化されていることを示唆している。