多源スパッタ法により作製したTi-SiO_x多層薄膜の自己伝播発熱反応挙動

抄録

我々は、Niフリーで自己伝播発熱反応を生じる材料を探索しており、Ti-Si多層膜がその有力な候補であることを報告した。しかし、Ti-Si多層膜は、その反応性が非常に高く機械的な刺激によっても容易に反応が開始してしまい、取扱いが難しい。本研究では、Siの代わりにSiO_xを用いて反応挙動を制御することを目的とし、一層対中のTi-SiO_x厚さ比、一層対厚さが自己伝播反応に及ぼす影響を調査した。