定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査（第21報）

ガウシアンフィルタによる点像分布関数制御のための基礎実験装置の構築

抄録

半導体デバイスの欠陥検出や加工構造の計測のために高い分解能を持つ計測技術が求められている．光学式計測は真空環境不要・非侵襲・一括計測性という観点から有効である．我々は回折限界を超える計測手法として3光束干渉定在波照明法を開発してきた．前報では，点像分布関数の負値を除去するためにガウシアンフィルタを用いた手法を提案した．本報では，提案手法を検証するための基礎実験装置の構築について述べる．