触媒表面基準エッチング法の原理と加工特性（キーノートスピーチ）

抄録

我々は機能材料表面の原子スケールでの平坦化が可能な触媒表面基準エッチング法を開発した。本手法は純粋な化学加工であり、触媒にPtを用い、加工液（エッチング液）を純水とする系が、SiCなどの炭化物や、GaN、AiNなどの窒化物、サファイアや光学ガラスなどの酸化物材料を極めて平坦に加工できることを見出した。加工メカニズムの検討も進んでおり、発表ではこれらの詳細を述べる。