新たな酸化セリウム砥粒再生技術及び再生装置の開発

第3報

抄録

ガラスの研磨において必要不可欠な酸化セリウム砥粒は、研磨屑であるSi水和物の付着によって研磨能力が劣化する。このSi水和物を除去する新たな再生技術について検討し、それを実現する装置を開発した。再生した酸化セリウム砥粒を用いた研磨実験を実施した結果、傷の発生を抑え、研磨効率をもとの砥粒の97％まで回復させることに成功している。本報告では得られた再生研摩剤の電界砥粒制御研磨についても検討した結果についても報告する。