半導体表面の加工に用いるグラフェン系触媒の合成と電気化学的評価

抄録

我々は、溶液中の酸素分子を水分子に還元する能力を持つグラフェン触媒を用い、次世代半導体の表面を金属汚染フリーで平坦化するプロセスを提案している。これには、高性能のグラフェン触媒が不可欠である。本発表ではまず、液中で分散性が高い還元グラフェンを得る手法を紹介する。また、グラフェン中への異種元素（N原子）のドーピングも試みた。そして、得られたグラフェン系触媒の酸素還元活性を電気化学測定により調査した。