精密工学会学術講演会講演論文集
2016年度精密工学会春季大会
セッションID: O33
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CMPの研磨特性に及ぼすスラリー中カチオン濃度の影響
*杉本 拓須田 聖一川原 浩一
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抄録
我々はこれまでにセリア砥粒を用いたCMPにおけるガラス/スラリー界面の電気特性について検討してきた。その結果スラリー中のカチオン濃度を高くすることでガラス界面導電性は上昇することが分かってきた。しかし界面導電性とガラス研磨特性との関係について詳細はいまだ明らかになっていない。そこで私たちは化学研磨メカニズム解明を目指してスラリー中のカチオン濃度が研磨特性に及ぼす影響について比較検討を行った。
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© 2016 公益社団法人 精密工学会
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