ピンホールマスクを用いた高分解能形状修正成膜法の開発　第2報

数値制御システムによる任意形状創成

抄録

自由曲面X線ミラーにより、任意の強度分布を持つX線ビームを実現できる。ミラー形状の自由度を向上させるには、平滑な表面を維持しながら、高分解能で形状を制御する必要がある。そこで、ピンホールマスクにより100μmの横分解能を有するイオンビームスパッタ成膜装置を構築した。実際に本装置により、100μmレベルの高分解能、数ナノメートルの高さ精度で任意形状を作製できることを実証した。