定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査（第22報） 基礎実験装置の基本機能の確認

久米 大将; 道畑 正岐; 高増 潔; 高橋 哲

doi:10.11522/pscjspe.2017A.0_201

2017年度精密工学会秋季大会

セッションID: C37

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2017A.0_201

会議情報

主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2017年度精密工学会秋季大会

開催地: 大阪大学

開催日: 2017/09/20 - 2017/09/22

定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査（第22報）

基礎実験装置の基本機能の確認

*久米大将, 道畑正岐, 高増潔, 高橋哲

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キーワード: 欠陥検査, 超解像光学, 構造照明, 定在波照明, 点像分布関数

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抄録

半導体デバイスの欠陥検出や加工構造の計測のために高い分解能を持つ計測技術が求められている．光学式計測は真空環境不要・非侵襲・一括計測性という観点から有効である．我々は回折限界を超える計測手法として3光束干渉定在波照明法を開発してきた．前報では，点像分布関数の負値除去機構を実装した基礎実験装置構築について述べた．本報では，構築した基礎実験装置の基本機能について述べる．

責任著者(Corresponding author)

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