マイクロ流通セルを用いたBTA-H2O2混合溶液中におけるCu表面のその場分光エリプソメトリ解析

瀬川 紘幹; 近藤 英一; 濱田 聡美; 嶋 昇平; 檜山 浩國

doi:10.11522/pscjspe.2017A.0_29

2017年度精密工学会秋季大会

セッションID: A22

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2017A.0_29

会議情報

主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2017年度精密工学会秋季大会

開催地: 大阪大学

開催日: 2017/09/20 - 2017/09/22

マイクロ流通セルを用いたBTA-H₂O₂混合溶液中におけるCu表面のその場分光エリプソメトリ解析

*瀬川紘幹, 近藤英一, 濱田聡美, 嶋昇平, 檜山浩國

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キーワード: 化学機械研磨, マイクロ流通セル, その場測定, エリプソメトリー

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抄録

Cu CMPでは，酸化・錯化させたCuを防食剤により保護しつつ研磨する．そのため，CMP中は酸化と防食効果が競合している．そこで，競合関係を把握するために，Cuを封入したマイクロ流通セルにBTA(C6H5N3)-H₂O₂混合溶液を流通させ，分光エリプソメトリを用いてその場測定した．これにより，浸漬中のCuを1 sec間隔でその場測定することに成功した．また，その場測定の結果，処理溶液の違いにより異なる挙動を示し，Cu表面の酸化と防食効果を解析することに成功した．

責任著者(Corresponding author)

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