エリプソメトリ法によるSi基板表面の微粒子計測

インクジェット装置による粒子付着とエリプソメトリ計測

抄録

半導体製造過程において洗浄は重要なプロセスである。新規洗浄プロセス開発のためにはプロセスのみならず粒子量の評価手法の開発も重要である。そこで我々は実験室レベルでも簡単にサブnmの極薄表面層の構造を決定可能な分光エリプソメータに着目し、粒子検出への応用を期待した。本研究では、特に実験室における簡易な評価法での応用を目的とし、エリプソメトリ法による基板上ナノ粒子の検出を試み有用性を検討した。