銀インクとアライメントマークを用いた銀ナノロッドパターンの積層技術の開発

抄録

近年、金属をナノパターンにすることで発生するプラズモン共鳴を用いたデバイスが注目を集めている。中でもプラズモンメモリは従来の光ディスクよりも多くの容量を持つことが期待されている。これまで銀インクを用いることで高スループットでプラズモンメモリを作製していた。しかし積層構造を作製するため高精度の位置合わせをする必要がある。そこでアライメントマークを用いることで高精度な位置合わせを行った。