大気圧プラズマCVDを用いたSiO_x機能性コーティング技術の開発

抄録

SiO_x薄膜は、反射防止膜、保護膜、撥水膜、絶縁膜などに幅広く応用することが出来る。我々は、大気圧プラズマCVD法を用いた低温かつ高速なSiO_x薄膜の形成技術の開発を進めている。今回、HMDSO(hexamethyldisiloxane)を原料としてSi基板上に形成したSiO_x薄膜について、膜構造や表面モフォロジーと撥水性・撥油性との関連を調べたので発表する。