屈折率分布型レンズアレイの要素レンズを用いた等倍投影露光の解像度と露光領域の検討

抄録

50µmライン&スペース（L&S）に対するMTFが50%の仕様で、直径1.1mm、2列の屈折率分布型レンズアレイを用い、等倍投影露光の検討を行っている。走査露光により15µm 以下までL&Sパターンを転写できたため、本報告では、要素レンズ単体による形成限界を実験により調べた。その結果、光量むらにより線幅に若干ばらつきがあるが、2.5µmL&Sパターンを直径約280µmの範囲に形成できた。