屈折率分布型レンズアレイを用いた厚膜レジストへの走査投影露光の基礎検討

抄録

屈折率分布型レンズアレイを投影レンズとする走査露光により、簡便安価かつ大領域にマイクロオーダの微細パターンを転写する方法を検討している。従来、1µm膜厚のポジ型レジストで微細化とフィールド内の均一露光に注力して来たが、今回、50〜100µmの厚いネガ型レジストに対してライン&スペースパターンの形成実験を行なった。アスペクト比１ぐらいまでは、垂直に近い側壁を持つパターンを形成できることが分かった。