UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価第4報

pHと酸化剤の変化による加工特性の評価

抄録

本研究ではメッシュポリシャとUV光を使ったGaN高能率化を検討している。また、ペルオキソ二硫酸カリウム、マンガン酸カリウム等、酸化剤の変化及びpHの変化が高能率化に与える影響を検討した。メッシュポリシャは素材として耐薬品性と耐光性を考慮してppsとDラッパーを使用している。