開口制限マスク付き正方形光ファイバを用いた露光技術の基礎検討

抄録

青色発光ダイオードと開口を制限したファイバを用い、より微細なコードマーク等の矩形パターンを転写できる新しい露光方法を検討した。一端を250μm角に成形したファイバマトリックスに、同ピッチの小さな正方形開口部を持ったマスクを設置し、自作の1/10投影露光装置のレチクル位置に設置した。露光の結果、最小6μmの正方形パターンおよび、走査露光によって12.5μmの直線パターンを転写できた。