大電力パルススパッタリング法を用いたナノ粒子合成の基礎検討

抄録

本研究では，大電力パルスマグネトロンスパッタ(HiPIMS)法によるナノ粒子合成を検討した．低蒸気圧を示すポリエチレングリコールでスパッタ粒子を捕捉し， TEMとDLSでは数nmの粒子が凝集して数百nmの二次粒子を形成していることを明らかにした．HiPIMSの電圧波形により，プラズマのイオン種の割合が変化することを確認し，プラズマ条件が凝集径に与える影響を検討した．その結果，高電圧・短パルスの場合に凝集径が小さくなることを確認した．