双極型静電吸着デバイスの複曲面対応を目指したオーセティックパターンを用いた複曲面生成構造の開発

抄録

本研究では静電吸着デバイスの複曲面対応に向け、単純な入力により複曲面を生成するAuxeticパターンを用いた構造を提案する。具体的には負のポアソン比を生み出すAuxeticパターンの二重湾曲現象を利用することで内法が拡大しながら複曲面を生成する構造を作成しシミュレーションで評価した。この構造で静電吸着デバイスを複曲面対応させることにより、平面でピックアップした薄膜を複曲面上に貼付することが可能になると期待される。