イオンビーム加工による光学面の形状創成とその表面ナノ構造

抄録

ドライプロセスは加工面を原子単位で除去できるため精密加工に適している．ドライプロセスのなかでもイオンビーム加工はスパッタに基づいて材料除去されるので，加工速度は遅いが種々の材料が加工可能という利点がある．高い光学性能を実現するうえで重要なのは光学面の形状精度と表面粗さである．そこで本稿では，イオンビームを利用した光学面の加工において，形状加工や平滑化に関する研究動向を紹介するとともに展望を述べる．