主催: 公益社団法人精密工学会
会議名: 2023年度精密工学会春季大会
開催地: 東京理科大学
開催日: 2023/03/14 - 2023/03/16
p. 364-365
半導体デバイスの製造過程においてウエハ上の微小欠陥位置を検出するために,高解像,高感度かつ高ロバストなイメージング法が求められている.本研究では,高感度かつ高ロバストな相関イメージング法である量子ゴーストイメージングを用いて超解像顕微鏡を構築する.本報告では,近接した2欠陥に対してイメージングを行い,従来の量子ゴーストイメージングで得られた画像と比較することで解像度が向上したことを示した.