プラズマCVMによる積層SiCセラミックスへの高精度表面形状創成

前工程における固定砥粒定盤を用いたラップ加工特性

抄録

宇宙望遠鏡のミラー材料として，設計自由度が高い積層SiCセラミックスは適当であり，その高精度形状創成プロセスとしてプラズマCVMを検討している．プロセスの効率化のため前工程として加工レートに優れるラップ加工を導入するが， 積層SiCセラミックスに含まれる成分の硬度差に起因して粒界段差が生じ，表面粗さが悪化する．本研究では，CVD-SiCの成膜による粒界段差解消を提案し，その結果について報告する．