正弦波位相変調干渉計による面内変位計測（2種の復調法の比較）

抄録

3次元構造の半導体の開発に対応するため、サブナノメートル分解能を持つ面内形状計測技術が必要である。本研究では光測長干渉計に電気光学素子を組込、正弦波位相変調干渉計を開発した。その位相復調アルゴリズムとして2種を画像データへ応用して二次元面内変位計測を行う。一つは人工干渉信号と位相同期ループを用いる手法で、二つめは変調周波数の12倍のサンプリングでそのデータ間の加減算により位相を求める手法である。