砥石定盤を用いたGaNウエハの高能加工プロセスの開発（第2報）

AFMを用いた摩擦力の評価

抄録

GaNウエハの平坦化には、従来は主にダイヤモンドスラリーを用いた遊離砥粒ラップ加工が用いられてきた。しかしながら、この方法の加工能率は非常に低く、より高能率な平坦化技術が求められている。そこで我々は遊離砥粒の代わりに砥石定盤を用いたGaNの高能率ラップ加工法の開発に取り組んできた。本報では、異なる加工液を使用した場合、砥粒とGaNウエハの摩擦力変化をAFMにより測定し、その結果が加工特性に与える影響を調査した。