プラズマCVMにおける基板保持方法が加工特性へ及ぼす影響

抄録

数値制御プラズマCVM （NC-PCVM）法は，大気圧下で発生させた局所プラズマを利用した化学反応に基づく非接触超精密加工法である．PCVMをウエハ状の対象に適用する際には真空吸着支持で基板表面を平坦に保つことが加工安定性の観点から理想的であるが，吸着台基材と空気の誘電率差により加工量が変化する．本報では，真空吸着支持における誘電率差緩和を目的としたシミュレーションによる吸着モデルの提案と実験による検証結果を報告する．