体積散乱体拡散板を用いたスペックル光リソグラフィによるランダムパターン形成

抄録

スペックル光を利用してレジストにランダムなパターンを形成するスペックル光リソグラフィ技術においてスペックルの発生源を表面散乱体から拡散性の高いオパール拡散板という体積散乱体に変えてパターン形成特性を自作の露光実験装置で検討した。ポジ型レジストを1μm に塗布したウエハに露光した結果、縮小投影レンズを用いることなく最小1μm程度のパターンを含む複雑な形状のレジストパターンを形成することができた。