スペックル光リソグラフィによる針状レジストパターンの微細化

抄録

拡散面にレーザを当てて発生したスペックル光をネガ型の厚膜レジストに当てると投影レンズを用いることなく最小直径約5µm、高さ最大約50µmの針状パターンを形成できる。この針状パターンの微細化を目的として、レーザのビーム径を拡大し、拡散面と投影面間距離を縮める検討をした。膜厚約10µmのネガ型レジストに最小直径約2～6µm、高さ約8µmのパターンを形成することができ、針状パターンの微細化を実現した。