CH₄濃度変調プラズマによるダイヤモンド膜の成長制御

抄録

過酷な環境で使用されるしゅう動部品では，摩擦摩耗低減のためダイヤモンド膜が利用されている．しかし従来のダイヤモンド膜は成膜後の研磨工程が必要であり，コストや時間の増大が課題である．本研究では，研磨レス化を目指し，CH₄濃度を変調させて合成することでダイヤモンド膜の微結晶化を行った．CH₄濃度の変調周波数を調節することにより，表面粗さSz=0.8 µm，硬さ65GPaの単層ダイヤモンド膜の作製に成功した．