狭ギャップマイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜の形成

投入電力とプロセス圧力が膜特性に及ぼす影響

抄録

ダイヤモンドの合成と知られるＣＶＤ法では、従来数 kWの大電力を用いる例が大多数であり、エネルギー効率が低く、低コスト化のネックになっている。この解決に向け、本研究では、対向電極間の狭ギャップに生成される局在プラズマを利用した合成法を提案する。講演では、基板温度等の成膜条件と得られるダイヤモンド形態の相関を述べ、近年注目されるナノプレートダイヤモンドの成長について報告する。